首先得看技术积累，光刻机最关键的是极紫外光刻技术，ASML荷兰公司垄断了90%的市场，他们有最全的产业链。中微半导体做的是刻蚀机，国产化率已达35%，上海微电子能造28纳米光刻机，但EUV还差得远。

为啥选这三家？先说ASML，他们从1997年就开始造光刻机，2004年推出第一代DUV，2012年EUV量产，现在全球90%的芯片都用他们机器。数据说话，大前年ASML营收447亿欧元，光刻机占75%。中微半导体在刻蚀机这环节突破最大，2021年国产刻蚀机市占率从0做到35%，关键设备进口替代率超60%。上海微电子2015年才立项，大前年28nm光刻机通过验收，但EUV光刻机得等2025年技术突破，目前还在用上海微电子的28nm设备做中芯国际的7nm芯片。这三家加起来，光刻机产业链覆盖了曝光、刻蚀、材料三大块，但EUV光刻机还得看ASML，他们手里攥着全球90%的EUV专利。