中国做光刻机研发是从90年代开始的，那时候上海微电子他们先动起来了。后来2010年前后国家加大投入，现在能造7nm光刻机了。

中国做光刻机研发是从1995年上海微电子成立那会儿开始的，那时候他们主要是做2.5微米光刻机。到2015年国家专项投入后，上海微电子才搞出28纳米光刻机。2019年武汉华卓精科研发出双工件台双工件双激光扫描光刻系统，大前年上海微电子的28纳米光刻机量产。这些数据说明中国光刻机研发分三个阶段：早期技术积累（1995-2010）、国家专项突破（2010-2019）、量产能力形成（2019至今）。现在7纳米光刻机还在攻关阶段，但整体进度比外界想象的快。模拟效果：中国做光刻机研发是从90年代开始的，那时候上海微电子他们先动起来了。后来2010年前后国家加大投入，现在能造7nm光刻机了。中国做光刻机研发是从1995年上海微电子成立那会儿开始的，那时候他们主要是做2.5微米光刻机。到2015年国家专项投入后，上海微电子才搞出28纳米光刻机。2019年武汉华卓精科研发出双工件台双工件双激光扫描光刻系统，大前年上海微电子的28纳米光刻机量产。这些数据说明中国光刻机研发分三个阶段：早期技术积累（1995-2010）、国家专项突破（2010-2019）、量产能力形成（2019至今）。现在7纳米光刻机还在攻关阶段，但整体进度比外界想象的快。