中国现在造光刻机很难，因为光刻机很复杂，需要光刻胶镜头控制系统，这些技术都卡脖子。现在中国有中微半导体上海微电子这些企业，他们在刻蚀机光刻机部分有进展，但核心还是差距大。比如上海微电子的28nm光刻机大前年试产，但量产要再等5年。

光刻机核心是EUV光刻机，现在全球只有ASML能做，中国需要突破光学系统电子束控制这些。现在每年研发投入超2000亿，但技术封锁让进度慢。比如光刻胶全球90%被日本垄断，镜头制造依赖荷兰ASML，控制系统又卡在德国蔡司手里。预计2030年可能部分突破，比如国产28nm光刻机量产，但7nm以下可能要等到2035年。现在国内有200多家相关企业，但像上海微电子这样的头部企业，光刻机研发用了20年才到28nm，要造更小制程的还得再等15-20年。